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前面对本书进行了概览,分享了本书内容,对一些章节详读,做点小笔记分享下。 对芯片制造比较感兴趣,对本章详读,简要的记录写小笔记分享。 制造工厂: 晶圆代工厂,芯片制造厂,Foundry,台积电TSMC,中芯国际SMIC 组成:核心:生产线,服务:技术部门,生产管理部门,动力站(双路保障),废水处理站(环保,循环利用)等。 生产线主要设备: 外延炉,薄膜设备,光刻机,蚀刻机,离子注入机,扩散炉,氧化炉,研磨抛光设备,清洗设备,检测,测量设备。 BCD工艺:Bipolar,CMOS,DMOS 特征尺寸: 晶体管栅宽度 各类工艺平台:逻辑工艺平台,数模混合工艺平台,高压工艺平台,非易事存储器工艺平台,三合一工艺平台,CMOS图像传感器工艺平台,微电机系统工艺平台。 光掩模版:基板,不透光材料 光刻胶:感光树脂,增感剂,溶剂。 正性和负性。 光刻工艺: 涂光刻胶。掩模版向下曝光。定影和后烘固化 蚀刻工艺:光刻胶除胶,蚀刻未被保护的SiO2,显影,除胶。 材料:晶圆,研磨抛光材料,光按模板材料。光刻胶,电子化学品。工业气体,靶材,封装材料 硅片制造:单晶硅棒拉制,硅棒切片,硅片研磨抛光,硅片氧化 工艺流程: 芯片设计,光掩模版制作,晶圆上电路制造,(薄膜氧化,平坦化,光刻胶涂布,光刻,刻蚀,离子注入扩散,裸片检测) |
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