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根据一些专家的说法,留给我们榨取硅潜能的时间只有不到十年了,到时将迎来其理论极限。在计算方面,仍采用了诸多努力,如纳米技术和三维芯片,来延长硅的摩尔定律周期,尽管目前已经有了后硅时代的其它选择:分子计算和量子计算。在功率半导体方面,碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN),两者都是宽带隙(WBG)半导体,已经成为进步有些放缓的高功高温硅细分市场的首选方案。
以氮化镓(GaN)、碳化硅(SiC)和氧化锌(ZnO)为代表的宽禁带半导体是继硅和砷化镓(GaAs)之后的第三代半导体材料,具有高击穿电场、高饱和电子速度、高热导率、高电子密度、高迁移率等特点,可实现高压、高温、高频、大功率、抗辐射微波毫米波器件和短波长光电半导体器件。宽禁带半导体是新一代雷达、通信、电子对抗系统最关键的半导体器件,也是新一代半导体照明关键的器件。 因为具备比硅高出约10倍的传导和开关特性,WBG材料是功率电子的最佳选择,可以生成更小、更快、更高效的器件,相对于硅器件,这种WGB器件承受的电压和温度都更高。这些特性,连同更好的耐用性和更高的可靠性一起,促使WBG功率器件成为当前重要新兴应用的关键助燃剂,如混动汽车、电动汽车以及可再生能源发电和存储。WBG功率器件还可以提升现有应用表现,特别是在效率增益方面。Yole Developpment研究估计,采用SiC或者GaN取代硅可将DC-DC的转换效率从85%增加到95%;将AC到DC的转换效率从85%提高至90%;并将DC到AC转换效率从96%优化到99%。 |
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RF应用也将受益于WBG半导体。不仅要包括爆炸式增加的移动设备应用,如智能手机和平板,而且还有进入家庭在线流媒体,这一现象创造了更多的用户和更多的数据,已经越来越普及并成为全球潮流。日益庞大的流量导致对无线和电信系统的性能需求的递增。这也难怪,基于硅的RF功率晶体管正在达到的功率密度、击穿电压和工作频率的上限。氮化镓推动了先进性能高电子迁移率晶体管(HEMT器件)和单片微波集成电路(MMIC)的发展,它们可用于高性能RF应用,而更小的栅极电容等效于更快的速度和更大的带宽。
WBG材料也可以发光,这种光属性助推了近年来WBG半导体的快速发展。事实上,固态照明行业正在使用基于GaN的发光二极管(LED),来成为白炽灯泡的替代品,因为后者在节能、耐用、寿命方面表现更佳,这种高效也会促进LED照明在未来几年销售的大规模增长,预计在2018年销售量将超越白炽灯。LED照明还为紧凑型荧光灯(CFL)灯泡提供了无汞替代品。氮化镓也可用于激光二极管,目前最常见到的实现是蓝光播放器。 图1 宽带隙的定义 之所以被称为WBG材料,主要是因为较之于常见硅,它们的能量带隙相对更宽。电子带隙是指固体材料的价带顶端和导带底端的能量间隙。电子可以通过热或光激励等方式跨越带隙到达导带。一些材料没有带隙,但带隙的存在使得半导体器件部分表现为导体特征,而这正是其名称“半导体”所暗示。 正是由于带隙,使得半导体具备开关电流的能力,以实现给定的电子功能;毕竟,晶体管仅仅是嵌入在硅基衬底上的微型开关。更高的能量带隙赋予了WBG材料优于硅的半导体特性。 相较于硅器件,WBG器件可以在较小的尺寸上忍耐高得多的运行温度,也激发了新型应用的出现。目前流行的WBG应用材料是碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)。 硅具有1.1电子伏特(eV)的带隙,而SiC和GaN则分别具有3.3 eV和3.4 eV的带隙。绝缘体材料具有非常大的带隙,典型值比4电子伏特(eV)还大,以及具备更高的电阻率。一般情况下,除了应用于钻石,否则它们不如半导体有用。虽然技术上来说,具有5.5eV带隙的砖石更应该是绝缘体,但实际上它却是半导体。 |
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