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1. 为什么要pad oxidation?仅仅是为了抵消SIN和SI之间的应力吗?这里的所谓应力指的是由于热膨胀导致的SIN和SI之间的应力吗?(印象中两者的的热膨胀系数好象很接近的?难道SIO2的是介于两者之间的?)
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1 条评论
5个回答
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谢谢你的回答,不过貌似我还不能加分哦,可能是等级还不够哦,等我等级够了一定回来替你加分哈. |
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生成场氧的同时推阱有什么影响?
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CMOS 100问太厉害了 鼎力支持
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只有小组成员才能发言,加入小组>>
584个成员聚集在这个小组
加入小组Prolith和HyperLith主要用于mask-in-stepper lithography仿真、光刻设计
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