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ITO蚀刻剂（/养化锡/铟养化锡蚀刻剂 TE-100）

氧化锡/铟氧化锡蚀刻剂TE-100 是应用于微电子行业的氧化锡/铟氧化锡层的选择性蚀刻剂，可高效的对陶瓷，绝缘层，半导体和多种金属底层上的氧化锡/铟氧化锡沉淀膜进行蚀刻，具有边界清晰，蚀刻速度可控的特性，与正负性光刻胶良好兼容。TE-100 不可用于含镍，铜，镍锘合金和铝的材质。

特性：
外观--深琥珀色
蚀刻率（室温25°C）--15-20 ? / sec（浸没）
工作温度--40-50 °C
漂洗--去离子水
存储--20-25 °C
有效期--一年（15-25 °C）

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铬蚀刻剂Chromium Etchants
1020 and 1020AC
Transene的1020和1020AC铬蚀刻剂是一种高纯度可精确清洁蚀刻铬或氧化铬薄膜的硝酸铵铈产品，1020AC是不含硝酸的低速蚀刻剂，两种产品均可配合正负性光刻胶使用，1020 为渗入型，最小蚀刻尺寸达到0.2微米，1020AC可完成微细凹槽蚀刻，使用后用去离子水清洗即可

特性
                                 1020                     1020AC
外观：                 透明，橙色         透明，橙色
比重                      1.127-1.130           1.127-1.130
滤透尺寸              0.2 micron                    -----
工作温度                 可变                       可变
蚀刻率（ 40 °C）  40 ? / sec            32 ? / sec
存储                          室温                       室温
清洗                        去离子水              去离子水
 
应用：蚀刻温度根据膜的厚度不同变化，室温下蚀刻时间从15秒到60秒。注意：操作必须在通风罩内进行。

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EMD代理美国TRANSEMNE公司各种蚀刻剂，光刻胶等，品种齐全，欢迎来电来邮索取技术参数与价格
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电话：021-61021226
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