EDA产业发展与IC设计产业发展相比，有哪些不同点呢？

中国的IC设计产业发展迅速，目前国内有一千多家Fabless设计公司，但是EDA的公司数目始终徘徊在个位数，从数量的绝对数字和增长数字来讲，远远不如Fabless公司。除了公司数目，在国际竞争力方面，也不向Fabless公司，在某些细分领域，具有国际领先水平和较大的市场影响力。EDA产业要发展，与IC设计产业发展相比，有哪些不同点呢？
　　1.面对的竞争对手不同
　　IC设计公司可以选择的细分产品很多，在一些细分领域里，可以绕开大的竞争对手。但是，EDA公司做出的产品，必须与国际3大EDA公司的产品正面竞争，几乎所有的细分领域，3大EDA公司都有与你竞争的产品，你无法绕开。
　　试想一下，如果你在IC设计公司做一款产品，做出来后，总是需要面对Intel，
　　高通或者三星的竞争，如论如何都绕不开，是否也会感觉到很头疼，总有“三座大山”挡在你面前，是一个绕不过去的门槛。
　　有人会说：你可以在某一个细分产品上做精做细，功能和性能都远超三大EDA公司不就可以了吗？但是软件产品有一个特点：成本弹性很大。如果3大EDA公司发现你开发出的产品功能性能比它的好，它会采用把这个产品免费送给客户，然后通过打包的方式，在其它你必须用到的产品上把价格再提上去。通过这个手段就可以打击竞争对手的具有竞争力的新产品。
　　2.产品对功能和性能的要求不同
　　IC设计公司的产品如果在性能上不如其它竞争对手的产品，可以在竞价比上进行弥补，因为不是所有的用户都希望用最高质量的产品，因此IC产品对性能的要求不是唯一指标。但是，EDA产品由于是一个工具产品，对性能的要求是最重要的指标，如果你不是3大EDA公司，你的产品比其它产品性能差，即使价格再便宜，也不会有人买单。这就要求你开发的EDA产品必须具有很强的竞争力才能生存，靠性价比是很难生存的。
　　3.面向的客户类型不一样
　　EDA公司面向的客户类型都是比自己规模大一个数量级的大客户，在商务谈判中处于劣势。而IC设计公司面对的客户类型比较多，有比自己规模大的，也有比自己规模小的，商务谈判有一定主动性。
　　4.产品开发的难度不同
　　从技术难度讲，EDA产品的开发难度还是要大于IC设计的设计难度。可能有些IC设计工程师不太认可这个观点，认为IC设计领域也有很多技术难点，为什么说EDA的技术难点就大于IC设计的难度呢？
　　从大的方向上讲，EDA产品强调的是创新，要求开发者必须有不同于以往技术的思路才能做到具有市场竞争力。IC设计虽然也需要创新，但是创新的成分占比不如EDA产品占比大。IC设计更多地强调是工程的严谨和经验的积累，过多地创新不一定会有很大竞争力。而EDA产品每做一个新的产品都无法继承原有的技术和思路，需要采用全新的方法和技术才能获得客户的认可。
　　5.知识产权保护的需求不一样
　　IC产品由于是硬件，它本身具有生产成本，因此复制产品的利益冲动不太大。但是由于软件产品的复制几乎不需要成本，就需要有很强的知识保护条件才能较好地发展。当知识产权保护不力时，EDA的开发成本无法回收，因此投入该产业的人员和资本都比较少 ，发展动力就不足了。
　　那么，EDA产业该如何克服上述困难，迎难而上，获得快速发展呢？ 我们将在后续的文章中继续讨论该话题。
　　这是想表达什么意思？前面讨论了中国EDA产业发展，难在哪里的问题。 今天我们先不讨论答案，而是先讨论一下中国发展EDA产业的必要性到底有多大？
　　许多人喜欢从宏观的角度论述EDA软件自主可控的重要性，这个方面的内容我们留给专家来分析。我想从微观的角度说明一个现象：IC设计工程师如果想进一步提高设计能力和设计水平，需要有本土EDA企业从EDA的原理角度讲解每个关键步骤隐含的实现原理是什么，从而加深对工具原理的深入理解，设计出更符合需求的产品。
　　我之前没有这个概念，或者说对这个概念很模糊。但是今年举行的几次针对IC设计工程师的原理性的培训，让我逐步思考这个问题：应该从哪个角度对IC设计工程师进行培训和讲解，更有利于工程师对原理和算法的理解，从而在设计中更清晰地把握关键要素，设计出更好的产品。
　　一个设计工程师对培训中讲到的“间距检查原理”深有体会，他说：我们之前不太理解间距检查中“内边”和“外边”的精确含义，误以为任意两个图形，只要他们的距离小于约束值，就会报错。结果刚好遇到一种特殊情况，由于对规则理解不深，导致漏报了间距错误，流片出现了问题。
　　工具要检查DN到TB的距离，红色箭头所指的距离刚好违反了约束值，本来应该用工具报错出来，但是工具没有报错，导致流片出现了问题。
　　有工程师埋怨软件工具或者软件的输入文件不合理，其实最根本的问题还是：工程师对EDA原理的理解不深导致没有检查出上述错误。
　　在间距检查中，最基本的原理就是：只针对“外边”进行检查，不对“内边”进行检查。上图中，箭头e所指的距离的2条边，一条是“外边”，一条是“内边”，在默认条件下工具是不去检查的。
　　那么，“内边”和“外边”的精确定义是什么呢？这就涉及到几何上的扫描线计数算法：任何一个图形，都可以按照逆时针方向把每一条边标记上箭头。遇到一个从左到右的箭头，就可以对其计数加1，遇到一个从右到左的箭头，就可以对其计数减1。通过统计每个图形的边计数记过是1还是2来判断其是“内边”还是“外边”。
　　如果理解了上述原理，则设计工程师就可以判断出：上图中箭头e的两条边，一条边的计数是1，是“外边”，令一条边的计数是2，是“内边”。因此，默认条件是不检查该间距的，应该加上特殊选项才能检查出该类错误。
　　通过上述例子，我们可以看到，EDA公司的工程师应该从算法原理上给IC设计工程师讲解工具使用方法，从而提升IC设计工程师对工具的理解，防止使用中出现偏差。
　　正是基于上述考虑，我们今年在北京、上海、深圳等地，针对Fabless的设计工程师，举行了多次免费培训，从算法和原理角度帮助工程师加深对EDA工具的理解。获得了工程师的好评。
　　培训部分反馈如下：
　　一位参与培训的工程师反馈：之前我对DRC/LVS/RCX都有过全面地使用，也修改过DRC/LVS/RCX Runset，但是没有一个系统性和原理性的深入理解，通过培训，我掌握了这些领域的基本原理和应用背景，对我今后工作大有益处。
　　另一位工程师反馈：之前我也参加过类似的Runset培训，但是该类培训仅仅是从语法上讲DRC/LVS/RCX/Latch up Runset，没有从Design rule与Runset的联系本质上讲述，而本次培训侧重于如何理解Design Rule的精确含义，如何把Design Rule转换成Runset这个角度进行了详细讲述。这个角度的讲述是国内第一次听到，这是一个需求导向性的培训，而不是传统的过程导向型的培训，实用性远远大于其它类型的培训。
　　还有一位工程师反馈：我之前修改过Foundry提供的DRC Runset，也检查发现过Foundry提供的Runset的错误，但是不知道如何系统地对Runset进行验证，本次培训不仅讲述了Runset如何开发，而且重点讲述了Runset如何进行准确全面地验证，掌握了该方法对我今后验证Runset的准确性很有帮助。
　　总结工程师的反馈，本次培训的内容核心为3点：
　　1. 如何准确地理解Design rule的含义
　　2. 如何把Design Rule转换为DRC/LVS/RCX Code
　　3. 如何验证DRC/LVS/RCX Code与Design Rule的一致性
　　传统的培训仅仅讲述第2点，并且是仅仅讲述第2点的Code语法描述，不讲述Design Rule到Code的转换原理和思路。而本次培训把全流程进行了充分的讲解和分析，是对传统培训的一个根本性的变化。
　　一位参加培训的工程师写到：“感谢2位博士给我们带来精彩的drc/lvs/esd/rcx/pcell等方面的介绍。你们辛苦了！ 也期待两位博士再次来介绍新的思路和方法。有这样的国内企业一直在EDA领域坚持着。真心希望国内能够多一些这样的企业，去从最基础的eda软件层面来帮助我们国内企业提高设计质量，提升产品竞争力。目前市面上的传统EDA商业巨头能够普遍使用，其实也是依靠广大用户的一直使用和反馈得以发展到今天这个局面的。 所以真心希望大家能给像这样的企业多一些支持，多使用以及多多提一些建议。”
　　另一位工程师写道： “培训很精彩，受益良多，下次还捧场。中国芯发展太需要这样的企业了。”
　　我们始终认为：国内EDA企业应该与IC设计企业、Foundry进行更深入的融合，才能共同进步，一起提高。EDA学科与IC设计学科是互补的学科，双方可以取长补短，在学术上共同探讨，促进整体IC业的技术进步。
　　EDA企业的价值更多地体现在对设计公司的设计水平的提升上，而不仅仅是使用工具的方法上。今后，我们将继续扩大对国内IC设计工程师的技术培训和原理讲解，把EDA公司的价值发挥到最大。
　　以上从一个微观的角度讲述了EDA企业在产业中的价值，不过，仅仅有必要性还不够，如果企业没有好的发展环境，它对产业的贡献能力也会大打折扣。我们后续会持续讨论EDA企业该如何克服发展中的困难，努力前行。