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图形反转工艺用于金属层剥离的研究

2009-10-6 10:05:30 10348

0 图形反转工艺用于金属层剥离的研究研究了ＡＺ?５２１４胶的正、负转型和形成适用于剥离技术的倒台面图形的工艺技术。用扫描电镜和台阶仪测试制作出的光刻胶断面呈倒台面，倾角约为６０°，胶厚１?４μｍ。得到了优化的制作倒台面结构的光刻胶图形的工艺参数：匀胶转速４０００ｒ／ｍｉｎ，前烘温度１００ ℃，时间６０ｓ，曝光时间０?３ｓ，反转烘温度１１０ ℃，时间９０ｓ，泛曝光时间２ｓ，显影时间５０ｓ。用金相显微镜测试了在优化工艺参数条件下制作的光刻胶图形的分辨率，同时对图形反转机理进行了讨论。关键词：光刻；ＡＺ?５２１４；剥离工艺；图形反转；断面模拟 w52sL2xb.rar (1.08 MB, 下载次数: 32 ) Do7Ljz7x.rar (1.08 MB, 下载次数: 20 ) W8z08WP1.rar (69.96 KB, 下载次数: 31 ) 0
2009-10-6 10:05:30　　评论淘帖0 举报相关推荐 • 光刻胶的图形反转工艺 1873 • 金属层2工艺是什么 1435 • 金属层1工艺的制造流程 1498 • 用于 ARRAY 制程工艺的低铜腐蚀光刻胶剥离液及白光干涉仪在光刻图形的测量 616 • 电动机正反转工作原理解析 9379 • 新GaAs IC 金属剥离的方法 1552 • 锗基衬底抗蚀剂剥离工艺研究 937 • 光刻胶剥离工艺 999 • 请问可剥离防焊胶主要应用于什么工艺生产环节上？ 2890 • 金属纤维毡用于锅炉烟气高温除尘的研究 1670 11 个讨论

0 强烈支持，初涉反转胶，需要很多的相关知识

2009-12-12 17:15:33 评论举报 1^# joannaji

0 强烈支持，初涉反转胶，需要很多的相关知识

2010-7-29 07:39:45 评论举报 2^# diracwang

0 回复来看看

2011-4-19 23:12:44 评论举报 3^# chipdf

0 :):):)

2011-4-19 23:13:11 评论举报 4^# chipdf

0 正好想学习，谢谢

2017-6-23 21:09:31 评论举报 5^# sirluu

0 正好想学习，谢谢

2017-6-23 21:09:36 评论举报 6^# sirluu

0 正好想学习，谢谢

2017-6-23 21:09:46 评论举报 7^# sirluu

0 解压有问题

2017-6-23 21:15:46 评论举报 8^# sirluu

0 学习一下

2017-7-6 17:00:07 评论举报 9^# gucas126

0 谢谢分享

2017-8-16 10:52:39 评论举报 10^# 刘纪文

0 集成电路封装测试材料设备采购销售信息群：108784692

2017-8-18 16:51:27 评论举报 11^# 4464036

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