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jf_14507239

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光刻胶图案化方法及光刻胶剥离方法及白光干涉仪在光刻图形的测量
2025-6-20 09:50

引言在半导体制造与微纳加工领域，光刻胶的图案化和剥离是形成精确图形结构的关键步骤，而光刻图形的准确测量则是确保工艺质量的重要环节。本文将详细介绍光刻胶图案化与剥离方法，并探讨白光干涉仪在光刻图形测量中的应用。光刻胶图...

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避免寄生栅极效应和斜纹 Mura 的光刻胶剥离装置及白光干涉仪在光刻图形的测量
2025-6-19 09:46

引言在半导体和显示面板制造过程中，光刻胶剥离环节若处理不当，易引发寄生栅极效应和斜纹 Mura 问题，严重影响产品性能和显示质量。同时，光刻图形的精确测量对工艺优化不可或缺。本文将介绍可避免上述问题的光刻胶剥离装置，并...

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用于 ARRAY 制程工艺的低铜腐蚀光刻胶剥离液及白光干涉仪在光刻图形的测量
2025-6-18 09:56

引言在显示面板制造的 ARRAY 制程工艺中，光刻胶剥离是关键环节。铜布线在制程中广泛应用，但传统光刻胶剥离液易对铜产生腐蚀，影响器件性能。同时，光刻图形的精准测量对确保 ARRAY 制程工艺精度至关重要。本文将介绍用...

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低含量 NMF 光刻胶剥离液和制备方法及白光干涉仪在光刻图形的测量
2025-6-17 10:01

引言在半导体制造过程中，光刻胶剥离液是不可或缺的材料。N - 甲基 - 2 - 吡咯烷酮（NMF）虽在光刻胶剥离方面表现出色，但因其高含量使用带来的成本、环保等问题备受关注。同时，光刻图形的精准测量对工艺优化和产品质量...

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金属低刻蚀的光刻胶剥离液及其应用及白光干涉仪在光刻图形的测量
2025-6-16 09:31

引言在半导体制造与微纳加工领域，光刻胶剥离是重要工序。传统剥离液常对金属层产生过度刻蚀，影响器件性能。同时，光刻图形的精确测量也是确保制造质量的关键。本文聚焦金属低刻蚀的光刻胶剥离液及其应用，并介绍白光干涉仪在光刻图形...

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减少光刻胶剥离工艺对器件性能影响的方法及白光干涉仪在光刻图形的测量
2025-6-14 09:42

引言在半导体制造领域，光刻胶剥离工艺是关键环节，但其可能对器件性能产生负面影响。同时，光刻图形的精确测量对于保证芯片制造质量至关重要。本文将探讨减少光刻胶剥离工艺影响的方法，并介绍白光干涉仪在光刻图形测量中...

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TFT-LCD 显示屏光刻胶剥离方法及白光干涉仪在光刻图形的测量
2025-6-13 10:07

引言在 TFT-LCD 显示屏制造工艺中，光刻胶剥离是关键工序之一，其效果直接影响显示屏的质量与性能。随着 TFT-LCD 技术向高分辨率、窄边框方向发展，对光刻胶剥离方法提出了更高要求。同时，精确测量光刻图形对于把控...

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用于叠层晶圆的光刻胶剥离液及白光干涉仪在光刻图形的测量
2025-6-12 10:03

引言随着半导体技术向高密度、高性能方向发展，叠层晶圆技术成为关键。在叠层晶圆制造过程中，光刻胶剥离液的性能对工艺质量和器件可靠性影响重大。同时，精确测量光刻图形是保障叠层晶圆制造精度的重要环节，白光干涉仪为此提供了有效...

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可再生光刻胶剥离液及其制备方法及白光干涉仪在光刻图形的测量
2025-6-5 09:43

引言在半导体制造与微纳加工行业，光刻胶剥离液的使用量庞大。传统剥离液存在环境污染、资源消耗等问题，可再生光刻胶剥离液凭借环保与可持续优势成为研究热点。同时，白光干涉仪在光刻图形测量中的应用，为保障工艺质量提供了关键技术...

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水平式光刻胶剥离工艺及白光干涉仪在光刻图形的测量
2025-6-4 09:30

引言在半导体制造和微纳加工领域，光刻胶剥离是光刻工艺的重要环节。水平式光刻胶剥离工艺凭借其独特优势在工业生产中占据一席之地，而准确测量光刻图形对保障工艺质量、提升产品性能至关重要，白光干涉仪为此提供了可靠的技术手段。 ...

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光刻胶剥离液及其制备方法及白光干涉仪在光刻图形的测量
2025-5-29 09:38

引言在半导体制造与微纳加工领域，光刻胶剥离液是光刻胶剥离环节的核心材料，其性能优劣直接影响光刻胶去除效果与基片质量。同时，精准测量光刻图形对把控工艺质量意义重大，白光干涉仪为此提供了有力的技术保障。光刻胶剥离液及其制...

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光刻胶剥离方法及白光干涉仪在光刻图形的测量
2025-5-28 09:33

引言在半导体制造、微纳加工等领域，光刻胶剥离是光刻工艺的关键环节之一，直接影响后续工艺的进行和最终产品的质量。而对光刻图形的精确测量，能够有效监控光刻工艺和光刻胶剥离效果，白光干涉仪为此提供了可靠的技术手段。光刻胶剥...

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纳米压印制备硅基 OLED 微型显示器的方法及白光干涉仪在光刻图形的测量
2025-5-26 09:20

引言硅基 OLED 微型显示器凭借高分辨率、高对比度等优势，在虚拟现实、增强现实等领域应用广泛。纳米压印技术为其制备提供了新方向，而精确测量光刻图形是保证制备质量的关键，白光干涉仪在其中发挥着重要作用。纳米压印制备硅...

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Micro OLED 阳极像素定义层制备方法及白光干涉仪在光刻图形的测量
2025-5-23 09:39

引言 Micro OLED 作为新型显示技术，在微型显示领域极具潜力。其中，阳极像素定义层的制备直接影响器件性能与显示效果，而光刻图形的精准测量是确保制备质量的关键。白光干涉仪凭借独特优势，为光刻图形测量提供了可...

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