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  • 金属湿法刻蚀 2023-05-29 10:48
    但是,HCl为基体的刻蚀溶液,会严重地侵蚀Ni(Pt)Si或Ni(Pt)SiGe,使金属硅化物阻值升高。这就要求有一种刻蚀剂是无氯基体,而且对Ni(Pt)Si或Ni(Pt)SiGe无伤害、对金属选择性又高。这就是目前常用的高温硫酸和双氧水混合液
    mfwj888888
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  • 浅析NAND闪存工艺 2023-09-11 09:32
    闪存芯片是非挥发存储芯片,广泛用于电子产品,特别是如数码相机、MP3播放器、手机、全球定位系统(GPS)、高端笔记本电脑和平板电脑等移动电子产品的存储应用。
    kTV18033111188
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  • SOI是Silicon-On-Insulator的缩写。直译为在绝缘层上的硅。实际的结构是,硅片上有一层超薄的绝缘层,如SiO2。在绝缘层上又有一层薄薄的硅层,这种结构将有源硅层与衬底的硅层分开。而在传统的硅制程中,芯片直接在硅衬底上形成,没有使用绝缘体层。
    wnyO_bdtdsj
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