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新疆维吾尔自治区乌鲁木齐市丨学术研究/学生

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高k金属栅(HKMG)工艺详解

随着集成电路工艺技术不断发展，为了提高集成电路的集成度，同时提升器件的工作速度和降低它的功耗，集成电路器件的特征尺寸不断按比例缩小，工作电压不断降低。为了有效抑制短沟道效应，除了源漏的结深不断降低和沟道的掺杂浓度也不断增加外，栅氧化层（Ga...

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高k金属栅(HKMG)工艺详解

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半导体设备与材料

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芯片
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赞同了文章 2024-7-19 20:15

浅谈失效分析—失效分析流程

▼关注公众号：工程师看海▼ 失效分析一直伴随着整个芯片产业链，复杂的产业链中任意一环出现问题都会带来芯片的失效问题。芯片从工艺到应用都会面临各种失效风险，笔者平时也会参与到失效分析中，这一期就对失效分析进行系统的讲解，笔者能力有限，且失效...

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浅谈失效分析—失效分析流程

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