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广西壮族自治区桂林市丨学术研究/学生

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ALD技术工艺原理、优势及应用 2023-10-18 11:33

面对真空镀膜多元的应用市场，镀膜技术的发展也从传统的蒸发、电子束热蒸发技术，相继发展出PECVD、ALD原子层沉积技术、磁控溅射技术等等，技术地位日益凸显。本报告嘉宾来自国内半导体设备龙头企业无锡邑文电子科技有限公司副总经理叶国光。叶总主要研究方向为化合物半导体器件与ALD原子层沉积技术，在LED，LD，HEMT与VCSEL的技术开发与ALD应用于半导体器件的技术领域颇具权威。本报告主要从半导体设备发展以及ALD技术、ALD最新应用：光学镀膜介绍以及邑文科技的国产化设备之路三方面详细介绍了ALD的设备工艺原理以及优势，重点分享了ALD设备的各项应用领域，以及如何运用在光学镀膜之上。

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第三代半导体热潮“带货”沉积设备需求，供应链与服务本地化成关键考量 2021-09-03 11:12

业界主流的薄膜沉积工艺主要有原子层沉积（ALD）、物理式真空镀膜（PVD）和化学式真空镀膜（CVD）等，其中ALD属于CVD的一种，属于当下最先进的薄膜沉积技术。

西西

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ALD技术半导体工艺领域发展及应用 2018-02-13 03:16

由于低温沉积、薄膜纯度以及绝佳覆盖率等固有优点，ALD（原子层淀积）技术早从21世纪初即开始应用于半导体加工制造。DRAM电容的高k介电质沉积率先采用此技术，但近来ALD在其它半导体工艺领域也已发展出愈来愈广泛的应用。高k闸极介电质及金属闸极的ALD沉积对于先进逻辑晶片已成为标准，并且该技术正用于沉积间隔定义的双倍暨四倍光刻图样（SDDP、SDQP），用以推广传统浸润式微影的使用以界定高密度逻辑暨记忆体设计的最小特征尺寸。

电子工程师

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半导体设备行业跟踪报告：ALD技术进行薄膜沉积工艺优势 2023-02-16 14:36

薄膜沉积是晶圆制造的三大核心步骤之- - ，薄膜的技术参数直接影响芯片性能。半导体器件的不断缩小对薄膜沉积工艺提出了更高要求，而ALD技术凭借沉积薄膜厚度的高度可控性、优异的均匀性和三E维保形性,在半导体先进制程应用领域彰显优势。

jt_rfid5

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单片机时钟电路原理图 2009-03-14 14:25

单片机时钟电路原理图下面以一个实际的时钟电路来说明定时器的软件编程方法，时钟是最为常见的显示时、分、秒为

电子工程师

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单片机时钟电路 2017-10-16 16:45

什么是时钟电路时钟电路就是产生像时钟一样准确运动的振荡电路。任何工作都按时间顺序。用于产生这个时间的电路就是时钟电路。时钟电路一般由晶体振荡器、晶震控制芯片和电容组成。时钟电路应用十分广泛，如电脑的时钟电路、电子表的时钟电路以及MP3MP4的时钟电路。单片机时钟电路作用单片机运行需要时钟支持就像计算机的CPU一样，如果没有时钟电路来产生时钟驱动单片机，那单片机就不能执行程序。单片机内部都是由许多诸如触发器等构

lyj159

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