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光刻机的基本原理和核心技术
2024-4-25 10:06

虽然DUVL机器可以通过多重曝光技术将线宽缩小到7-5纳米，但如果要获得更小的线宽，DUVL已经达到了极限。采用EUV作为光源的极紫外光刻（EUVL）成为研究的重点，其波长为13.5纳米。...

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一文详解微纳加工刻蚀工艺
2024-4-16 09:41

微纳加工的高精度和精确度，可以在微米和纳米尺度上精确控制材料的形状和结构，这使得制造微小器件和结构成为可能。...

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浅谈刻蚀的终点控制
2024-4-9 11:26

当等离子体转变到这种状态时，电子密度处于最低水平。一般来说，等离子体密度下降的水平取决于占空比和脉冲频率。通过调整脉冲的占空比，可以将时间平均离子能量分布函数进行调整。...

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芯片制造工艺：光学光刻-掩膜、光刻胶
2024-3-20 12:36

制造集成电路的大多数工艺区域要求100级（空气中每立方米内直径大于等于0.5μm的尘埃粒子总数不超过约3500）洁净室，在光刻区域，洁净室要求10级或更高。...

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芯片制造工艺为什么用黄光?
2024-3-18 10:28

光刻是集成电路（IC或芯片）生产中的重要工艺之一。简单地说，就是利用光掩模和光刻胶在基板上复制电路图案的过程。...

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揭秘芯片制造工艺——硅的氧化过程
2024-3-13 09:49

由于只有热氧化法可以提供最低界面陷阱密度的高质量氧化层，因此通常采用热氧化的方法生成栅氧化层和场氧化层。...

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芯片制造工艺：晶体生长基本流程
2024-3-12 11:15

从液态的熔融硅中生长单晶硅的及基本技术称为直拉法（Czochralski）。半导体工业中超过90%的单晶硅都是采用这种方法制备的。...

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集成电路芯片制造工艺全流程
2024-3-11 10:19

一般来说SiO2是作为大部分器件结构中的绝缘体或在器件制作过程中作为扩散或离子注入的阻挡层。...

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频谱分析仪入门指南：基础知识详解
2024-3-6 10:16

信号频域分析的测量范围极其宽广，超过140dB，这使得频谱分析仪成为适合现代通信和微波领域的多用途仪器。频谱分析实质上是考察给定信号源，天线，或信号分配系统的幅度与频率的关系。...

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5G技术面面观：毫米波与Sub-6GHz特性及其量产挑战
2024-3-1 10:08

5G 毫米波与Sub-6GHZ特性与量产挑战...

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一文读懂芯片混合键合工艺流程
2024-2-27 09:24

在封装史上，最后一次重大范式转变是从引线键合到倒装芯片。从那时起，更先进的封装形式（例如晶圆级扇出和 TCB）一直是相同核心原理的渐进式改进。...

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全球晶圆代工行业格局及市场趋势
2024-1-4 10:56

晶圆制造产业在集成电路产业中起着承前启后的作用，是整个集成电路产业的平台和核心，而晶圆代工又是晶圆制造的主要存在形式。晶圆代工企业为芯片设计公司提供制造服务，同时生产出来的晶圆通过封装测试，成为最终可以销售的半导体芯片。...

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SRRC新规开始实施，诺思新品可提升WiFi 2.4G边带抑制
2023-12-22 16:22

诺思推出的RSFP2421E，为国内首款适用于SRRC最新标准产品，有效帮助客户解决 2.4G WiFi边带（2380-2390MHz/2483.5-2500MHz)抑制问题！...

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6G总体愿景、技术趋势、网络架构研究报告
2023-12-19 11:23

世界各国不仅把6G作为构筑未来数字经济与社会发展的重要基石，也将其视为国家间前沿科技竞争的制高点。全球主要国家的多。个研究机构和联盟组织相继发布了6G总体愿景、技术趋势、网络架构等方面的白皮书和研究报告，陈述各国发展6G...

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全面解析***结构及工作原理
2023-12-19 09:28

光刻与光刻机 ➢对准和曝光在光刻机(Lithography Tool)内进行。 ➢其它工艺在涂胶显影机(Track)上进行。光刻机结构及工作原理 ➢光刻机简介 ➢光刻机结构及工作原理...

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