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丁丁22

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版图设计厦门澎湃微电子有心公司

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Line Edge Roughness (LER) 线边缘粗糙度 2024-08-23 15:41

来源：C Lighting 线边缘粗糙度(LER) 线边缘粗糙度（LER）指的是栅极图案边缘的随机变化，即印刷图案边缘的粗糙度。当最小特征尺寸减小到几十纳米以下时，LER对MOSFET性能的影响就无法忽视了。LER会在沟道长度方向上产生一些幸运（lucky）通道（即局部短沟道），从而导致器件之间的不匹配。例如，在Intel的65纳米器件中，当LER的标准偏差三倍值（3σ）大于标称栅极关键尺寸（critical dimension）的10%时，实验观察到了导通驱动电流（on-state drive current）下降了

半导体芯科技SiSC

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介绍数字后端概念--Shape Blockage 2018-01-29 10:27

今天我们主要介绍的数字后端概念是Shape Blockage（形状阻碍物）。主要是用于在Design Planning时，阻碍工具在shape blocks时，在该处放置block。平时较少使用，如下图所示，工具不会在红字区域摆放block.

LfZw_IC_Physica

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Tweake生成Timing 文件及生成Tweaker的主脚本介绍 2021-07-28 16:07

作为第一次使用Tweaker的新手，可能会担心Tweaker流程很麻烦。不过无需担心，Tweaker功能丰富，而且提供了完整的、经过大量项目验证的、可以直接使用的参考流程。只要简单配置一下输入文件，就可以快速地把Tweaker运行起来。这篇短文将手把手教大家运行Tweaker，让你们直观感受Tweaker参考流程的魅力。 Job Monitor 分析剩余没有修掉的原因查看修复结果 PR工具里实现ECO Testcase介绍这里是一个真实的设计。刚运行完icc2，拿到了route_opt的database，PTSI的结果如

R2r0_X_EPIC

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