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jf_23562686

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关注了版块 2022-2-28 10:22

电子元器件论坛
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《炬丰科技-半导体工艺》IC制造工艺

h1654156021.5878

`书籍：《炬丰科技-半导体工艺》文章：IC制造工艺编号：JFSJ-21-046作者：炬丰科技网址：http://www.wetsemi.com/index.html 摘要：集成电路的制造主要包括以下工艺步骤：光刻：通过在晶片表面涂上均匀的薄薄一层粘 ...

来源：电子元器件论坛标签：半导体工艺
收藏了帖子 2022-2-28 10:18

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光刻胶

szwhchip
销售总监苏州汶颢微流控技术股份有限公司

SU-8光刻胶 SU-8光刻胶克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题，在近紫外光（365nm-400nm）范围内光吸收度很低，且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致，可得到具有 ...

来源：芯片求购|供应发布区

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