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《炬丰科技-半导体工艺》硅片清洗技术的演变
2023-4-18 10:06

通过对硅表面的清洗和表面处理制备超净硅。集成电路在制造条件下发生了相当大的变化，在1993年。这些变化的驱动力是不断增长的，生产高性能先进硅器件的要求，可靠性和成本。这些电路的特征尺寸已经被放大了。在100纳米以下，...

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《炬丰科技-半导体工艺》III-V族化学-机械抛光工艺开发
2023-4-18 10:05

书籍：《炬丰科技-半导体工艺》文章：III-V族化学-机械抛光工艺开发编号：JFKJ-21-214 作者：炬丰科技摘要 III-V材料与绝缘子上硅平台的混合集成是一种很有前景的技术。二乙烯基硅氧烷-双苯并环丁烯...

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《炬丰科技-半导体工艺》III-V集成光子的制备
2023-4-19 10:04

书籍：《炬丰科技-半导体工艺》文章：III-V集成光子的制备编号：JFKJ-21-212 作者：炬丰科技摘要本文主要研究集成光子的制备工艺。基于III-V半导体的器件，这项工作涵盖了一系列III-V材料以及...

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《炬丰科技-半导体工艺》III-V的光子学特性
2023-4-19 10:03

书籍：《炬丰科技-半导体工艺》文章：III-V的光子学特性编号：JFKJ-21-215 作者：炬丰科技摘要 III-V型半导体纳米线已显示出巨大的潜力光学、光电和电子器件的构建模块。电子和光子沿纳米线的特...

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《炬丰科技-半导体工艺》 HQ2和HF溶液循环处理
2023-4-19 10:01

书籍：《炬丰科技-半导体工艺》文章：HQ2和HF溶液循环处理编号：JFKJ-21-213 作者：炬丰科技摘要采用原子显微镜研究了湿法化学处理过程中的表面形貌。在SC-1清洗过程中，硅表面的粗糙度大大增加，这将导致...

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氟林流体浅谈关于化学品管道施工工艺
2023-4-19 13:59

江苏氟林流体科技有限公司主要从事半导体和集成电路行业相关的流体控制产品的生产服务商，多年来结集一支从研发、生产技术支持到提供应用集成服务解决方案的专业团队。致力于向用户推荐优质产品，由于公司产品具有非常好的产品特性和快速...

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气动隔膜阀工作原理及组成
2023-4-19 13:58

隔膜阀用耐腐蚀衬里的阀体和耐腐蚀隔膜代替阀芯组件，利用隔膜的移动起调节作用。隔膜阀的阀体材料采用铸铁、铸钢，或铸造不锈钢，并衬以各种耐腐蚀或耐磨材料、隔膜材料橡胶及聚四氟乙烯。衬里的隔膜耐腐蚀性能强，适用于强酸、强碱等强...

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化工设备腐蚀与防护
2023-4-19 13:57

化工设备常见的电化学腐蚀类型 1 . 应力腐蚀破裂材料在应力和腐蚀介质共同作用下的破裂，简称SCC(Strain Corrosion crack) 三个必要条件——应力（一般指拉应力）、腐蚀介质、敏感的材料重要影响因...

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氟林流体-CSE酸液自动配液机在行业的应用
2023-4-20 13:57

无机酸性溶液，在半导体芯片制造、医疗器械与制药、产品检测（如纺织品检测、化妆品检测、药品检测、食品检测、化工产品检测等）、冶金化工工业加工等诸多领域都有着广泛的应用。以硫酸H2SO4、盐酸HCL、硝酸HNO3、磷酸H3P...

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酸性化学品供应控制系统
2023-4-20 13:57

[技术领域] 本实用新型涉及半导体制造技术领域，具体地说是一种酸性化学品供应控制系统。由于半导体行业中芯片生产线的工作对象是硅晶片，而能在硅晶片上蚀刻图形以及清洗硅晶片上的杂质、微粒子的化学品大多是酸碱性溶液或气体...

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工业泵在半导体湿法腐蚀清洗设备中的应用
2023-4-20 11:45

【摘要】在半导体湿法工艺中，后道清洗因使用有机药液而与前道有着明显区别。本文主要将以湿法清洗后道工艺几种常用药液及设备进行对比研究，论述不同药液与机台的清洗原理，清洗特点与清洗局限性。【关键词】湿法清洗有机药液槽...

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《炬丰科技-半导体工艺》金属氧化物半导体的制造
2023-4-20 11:16

书籍：《炬丰科技-半导体工艺》文章：金属氧化物半导体的制造编号：JFKJ-21-207 作者：炬丰科技概述 CMOS制造工艺概述 CMOS制造工艺流程设计规则互补金属氧化物半导体工艺 1.CMOS晶...

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《炬丰科技-半导体工艺》单晶的湿法蚀刻和红外吸收
2023-4-23 11:15

书籍：《炬丰科技-半导体工艺》文章：单晶的湿法蚀刻和红外吸收编号：JFKJ-21-206 作者：炬丰科技摘要采用湿法腐蚀、x射线衍射和红外吸收等方法研究了物理气相色谱法生长AlN单晶的缺陷和晶格完善性。一个正六边...

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微机电系统MEMS简介
2023-4-24 09:21

摘要 MEMS已被认为是最有前途的技术之一。在21世纪，它具有革命性的工业和结合以硅为基础的微电子产品微加工技术。它的技术和微系统电子设备有可能极大地影响我们的生活。本文介绍了微机电系统文章全部详情，重点介绍其商业应用和...

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半导体清洗科技材料系统
2023-4-23 11:03

书籍：《炬丰科技-半导体工艺》文章：下一代半导体清洗科技材料系统编号：JFKJ-21-188 作者：炬丰科技摘要本文简要概述了面临的挑战晶圆清洗技术正面临着先进的silicon技术向非平面器件方向发展结构和半导体...

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