发 帖  
经验: 积分:2
工程师 华虹
上海市 浦东新区 生产品质管理
  • 韩国三星电子于15日宣布在Samsung Foundry Forum 2019 USA上发布工艺设计套件(PDK)0.1版3nm Gate-All-Around(GAA)工艺3GAE。 与7 nm工艺相比,3GAE可将芯片面积减少高达45%,降低50%的功耗或实现35%的性能提升。基于GAA的过程节点有望用于下一代应用,如移动,网络,汽车,AI和物联网。 3GAE的特点是采用GAA的专利变体MBCFET(多桥通道FET)而不是传统的GAA,该公司已经完成了测试车辆设计,并将专注于提高其性能和功率效率。 图:晶体管结构的转变 在传统的GAA中,
    jf_1689824270.4192
    7846次阅读
    0条评论
ta 的专栏

成就与认可

  • 获得 0 次赞同

    获得 1 次收藏
关闭

站长推荐 上一条 /6 下一条

返回顶部