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最近需要用到干法刻蚀技术去刻蚀碳化硅,采用的是ICP系列设备,刻蚀气体使用的是SF6+O2,碳化硅上面没有做任何掩膜,就是为了去除SiC表面损伤层达到表面改性的效果。但是实际刻蚀过程中总是会在碳化硅表面有一层白色物质,肉眼看上去是发黑,实际用手去触碰,发现是白色粉末。请问这是什么原因导致的? |
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