怎样在Layout上去绘制一种反相器版图呢

　　本文主要记录反相器版图的绘制以及layout的常用操作。
　　打开Layout XL
　　打开已经画好的反相器原理图，打开菜单Launch选择layout XL
　　
　　
　　点ok即可
　　
　　cell名要和原理图的名字一致，Type这里选择layout，点ok
　　
　　成功进入layout界面
　　绘制版图
　　backspace撤销上一个点
　　导入器件，打开菜单connectivity选择Generate点All from source
　　
　　
　　在generate中，只需要勾选Instances。其余两个不需要勾选。
　　
　　会出现两个红框，这时器件已经导入进来了，只是没有显示层，使用快捷键shift+f。
　　
　　这时就看到了器件的版图。并在各极上显示有网络标号。使用快捷键a将两个器件栅极对齐，使用p将两个栅极连接，使用p时，软件会自动识别线层和线宽，连接完成时按 enter，（这是IC617的功能）。操作处下图。
　　
　　将栅极连好后，同样使用p连接其他极，连接网络标号相同的极。
　　如果，在原理图选中器件后，版图中也会同时标记出来，在原理图中，选中连接线后，在版图中会高亮显示，相应器件。
　　
　　这里仅仅是演示，没有注意版图的紧凑和其他要求。
　　画好后，需要填加字符，与原理 图中的pin对应。使用快捷键l。
　　
　　在这里，需要设置两个，一个是label的名字，（与原理图中pin名一致），select layer，这里一定要选择M1 TXT层。之后将字符放在M1金属上。
　　
　　但，in不能直接放，字符只能放到金属层，我们需要在栅极这里放个过孔，使用快捷键o
　　
　　我们选择M1_GT，是M1到GT的过孔。其他参数不需要修改。放置完成如下图所示。
　　
　　之后分别放置vcc，gnd，in 。一定要放置到M1金属层上。完成后如下图所示。
　　
　　点保存，并且要有随时保存的习惯。不然可能出现一天的努力都随着软件的崩溃而消失。
　　DRC
　　DRC检查为检查版图中器件的放置是否满足工艺要求，如果器件太近，在制作时无法实现。
　　打开菜单calibre，选择Run nmDRC。
　　
　　
　　将Load Runset File窗口叉掉，
　　
　　注意红框框住的位置。
　　点上方红色字体的Rules，我们来填加规则文件。
　　
　　点**…**来找规则文件。
　　
　　规则文件所在目录，一般与图中路径相同。选择**…p2mt6**，点ok
　　
　　点Run DRC开始DRC检查。
　　
　　在错误，GT层必须在ONO中，所以我们在两栅极这间，用ONO材料画一个矩形。ono在左侧选择，之后用快捷键r画一个矩形。
　　
　　还有错误，在过孔中，M1金属的区域太小，我们选中过孔，使用快捷键q，查看其属性。并修改。
　　
　　
　　修改完成后点ok。再检查一下DRC，刚才的错误没有了，
　　
　　剩下的是密度问题，因为我们的器件太少了。暂时不用理会。
　　LVS检查
　　LCS检查为检查电气连接，是否存在电气连接错误。
　　打开菜单calibre，选择Run nmLVS。
　　
　　叉掉load runset file。
　　
　　LVS是将原理 图网络与layout网络对比，选择完layout输入后，还要选择nerlist输入。
　　点netliast按钮，选中右边红框中的方框。
　　
　　再选择LVS规则文件，
　　
　　之后，点Run LVS。开始LVS检查。
　　如果没有电气连接错误，会出现笑脸，如下图所示。
　　
　　到这里版图绘制就完事了。