发 帖  
原厂入驻New
申请华秋企业认证 多层板首单免费打样!
30s提交资料,10分钟通过审核(免费赔付+顺丰包邮)>>立即报名
[求助] 光刻胶残留要怎么解决?
2016-11-29 14:59:18  4580
分享
这是我的版图一部分,然后生成了图案是这样的:
感觉间距小的地方全都有残留,间距大的地方没有残留;

工艺参数:s9920光刻胶, evg 620‘
未进行蒸汽底漆层涂覆,前烘:100摄氏度,90s ; 曝光50s,曝光后烘烤100摄氏度,90s, 显影60s,水清洗, 烘箱140摄氏度,30min。

这几天一直通过修改曝光时间,显影方式就是将ITO玻璃浸入到cd26中晃动容器来显影,显影时间,发现间距小于2um。
的地方大部分有光刻胶残余。
这个问题困扰了好久,请各位指点迷津,提供一些建议。我现在完全不知道怎么弄了。

0
2016-11-29 14:59:18   评论 分享淘帖
9 个讨论
你好描述的还不够清楚曝光设备的曝光方式是怎么样的,这个很重要!
但简单来说单一的调整曝光时间是不行的要相对调整,光刻胶的厚度调整一下会有明显的效果(调整涂胶设备转速),希望能帮助你!
2016-12-11 12:25:07 评论

举报

是否考虑将胶水的浓度比例调整一下 让胶水稀一些 或者 水清洗那部分加入胶水清洗的步骤
2017-3-15 17:28:23 评论

举报

增加显影时间,显影流量
2017-3-25 00:02:03 评论

举报

别增加曝光量,曝光量控制线宽,只要增加显影时间,流量,水洗流量,时间
2017-3-25 00:03:28 评论

举报

有点似焦点飘掉了~可以试着调整焦点或增加显影时间
1.感觉有点defous
2.调exposure energy,develop time
建议做FEM,
2017-9-24 11:45:58 评论

举报

有可能是匀胶不均匀,曝光有偏差
2018-4-12 13:16:11 评论

举报

可以考虑用我司的UV减粘胶带,过UV光照后脱粘,无残留。联系方式:13713517198
2018-6-28 09:52:19 评论

举报

以上大神们给的都是不同角度的考虑,你可以逐一排查。
2019-7-9 08:30:16 评论

举报

专注光刻清洗设备  清洗范围有 集成电路 LED芯片 分立器件 太阳能光伏,半导体材料mems等  魏先生  18896773812
2019-12-12 11:01:11 评论

举报

高级模式
您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

发表新帖
关闭

站长推荐 上一条 /5 下一条

快速回复 返回顶部 返回列表