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苏州汶颢

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工程师苏州汶颢微流控技术股份有限公司

江苏省苏州市丨设计开发工程

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发布了文章昨天 14:47

芯片键合-真空热压键合机使用方法

一、使用前的准备放置要求真空热压键合机应放置在稳固的水平操作台上，保证机器处于平稳状态。同时要放置在通风、干燥、无腐蚀性气体、无大量尘埃的洁净环境中使用，且机器的背面、顶部及两侧应具有30cm以上的间隔空间。连接与检查压力系统连接：...

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发布了文章 5 天前

光刻掩膜和光刻模具的关系

光刻掩膜（也称为光罩）和模具在微纳加工技术中都起着重要的作用，但它们的功能和应用有所不同。光刻掩膜版光刻掩膜版是微纳加工技术中常用的光刻工艺所使用的图形母版。它由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，通过曝光过程将图形信息转移到...

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发布了文章 2024-10-11 16:59

菲林掩膜和光刻掩膜的区别

菲林掩膜和光刻掩膜都是在微电子制造过程中用于图案转移的技术，但它们之间存在一些显著的区别。基本概念菲林掩膜，也称为光绘菲林或菲林光掩膜，通常是由透光合成树脂（如PET）制成的基材，上面有一层避光层，通常是感光乳胶。这种材料类似于照相用的...

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发布了文章 2024-9-6 14:09

掩膜版与光刻胶的功能和作用

掩膜版与光刻胶在芯片制造过程中扮演着不可或缺的角色，它们的功能和作用各有侧重，但共同促进了芯片的精确制造。‌ 掩膜版‌，也称为光罩、光掩膜或光刻掩膜版，是微电子制造过程中的图形转移母版。它的主要功能是作为设计图形的载体，通过光刻过程将掩膜版...

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发布了文章 2024-9-5 14:31

铬版掩膜版介绍及制作方法

铬版掩膜版在IC生产中会大量使用，现社会因为LCD生产的档次提高了，也加大了生产量，铬板也逐渐由IC行业给推荐至LCD行业。铬板的优点很多，比如：线条精细、边缘锐利、刻蚀均匀、加工简单、抗环境变化、硬度高抗划伤、经久耐用等诸多优点。在LCD...

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发布了文章 2024-9-4 14:55

芯片光刻掩膜的保存方法

光刻掩模是光的一种掩蔽模片，其作用有类似于照相的通过它，可以使它“底下“的光剂部分成光，难溶于有机药品，一部分不感光，易溶于有机药品，以而制得选择扩散所需的窗口和互速所需的图案。掩膜版有两种：一种是在涂有普通乳胶的照相干版上，依据掩模原图...

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发布了文章 2024-8-30 13:53

微流控流量控制系统之微量注射泵

微量注射泵在微流控领域是最经常使用的一种流量控制系统，微流注射泵的参考图片如下图所示。微量注射泵可分为两类：经典注射泵—价格便宜但是会产生流量振荡；无脉动的微流控微量注射泵—价格偏贵但是可以提供更高的流量稳定性。本文中，仅关注无脉动的微量注...

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发布了文章 2024-8-29 14:44

微流控芯片3大制作技术

微流控技术的核心思想，是以最小的消耗来获得最大的产出，仅需极少的样本采集便可获得所需的各项信息。具体来讲，微流控追求的是最小的反应体系(皮升、纳升级别)，保持最低的试剂和样品消耗，并行最多的独立反应，同时保持反应体系的封闭性，减少污染，等等...

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发布了文章 2024-8-28 14:42

微流控芯片加工中的PDMS软刻蚀技术和聚合物成型介绍

微流控芯片大致可以分为三种类型：PDMS芯片、聚合物芯片（COC、PMMA、PC等）和玻璃芯片。三种不同类型的芯片各有不同的加工方法。本文主要介绍PDMS芯片加工的软光刻/软刻蚀技术（soft lithography technique）和...

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发布了文章 2024-8-27 15:54

如何成功的烘烤微流控SU-8光刻胶？

在微流控PDMS芯片加工的过程中，需要使用烘胶台或者烤胶设备对SU-8光刻胶或PDMS聚合物进行烘烤。SU-8光刻胶的烘烤通常需要进行2-3次。本文简要介绍SU-8光刻胶烘烤的注意事项。微流控SU-8光刻胶烘烤：软烘、后曝光烘烤和硬烘在...

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发布了文章 2024-8-26 14:16

如何成功的旋涂微流控SU-8光刻胶？

在微流控PDMS芯片或SU-8模具制作的过程中，需要把PDMS胶或SU-8光刻胶根据所需要的厚度来选择合适的旋涂转速并且使PDMS胶或SU-8胶涂布均匀化。如何成功的旋涂微流控SU-8光刻胶？基底上SU-8光刻胶的图层可以通过若干种技术...

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发布了文章 2024-8-25 14:58

微流控芯片中玻璃和PDMS进行等离子键合需要留意的注意事项

微流控PDMS芯片通常采用等离子体处理的方法，不同的处理参数会影响到PDMS芯片的键合强度。良好的键合牢固的芯片的耐压强度可以达到3-5 bars的耐压值。本文将简要介绍PDMS-玻璃等离子体键合工艺过程中需要留意的注意事项。...

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发布了文章 2024-8-23 14:39

如何成功进行微流控SU-8光刻胶的紫外曝光？

为了成功紫外曝光并且根据所需要的分辨率，光刻胶掩模必须尽可能的靠近SU-8光刻胶放置，不要有任何干扰。如要这样做，可检查如下几件事。首先，光掩模和晶圆之间的灰尘或任何其他元素的存在都会导致不完美的接触。在曝光的过程中，通过清洁光掩模和仔细...

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发布了文章 2024-8-21 15:02

微反应器的工艺过程及优势

微反应器采用微加工制造技术，设计通道尺度在１０μｍ～３ｍｍ范围的流动化学反应器。由于微反应器较小的通道尺寸，较短的传质距离和较高的比表面积等优点，微反应器可以提供更快速的混合效果、更优异的换热性能、更精准的温度控制、从而提高反应选择性和反应...

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发布了文章 2024-8-19 13:20

半导体掩膜版制造工艺及流程

半导体掩膜版制造工艺及流程掩膜版（Photomask）又称光罩，是液晶显示器、半导体等制造过程中的图形“底片”转移用的高精密工具。光掩膜基版是制作微细光掩膜图形的理想感光性空白板，被刻蚀上掩膜图形之后就成为光掩膜版。掩膜板可分为光掩膜版和...

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