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TYLT18682012001

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光刻各环节对应的不同模型种类
2023-12-11 11:35

光学模型是基于霍普金斯（Hopkins）光学成像理论，预先计算出透射相交系数（TCCs），从而描述光刻机的光学成像。光学模型中，经过优化的光源，通过光刻机的照明系统，照射在掩模上。如果在实际光刻中，入射光的波长大于掩模线...

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光刻可制造性检查如何检测掩模版质量
2023-11-2 14:25

随着工艺节点不断变小，掩模版制造难度日益增加，耗费的资金成本从数十万到上亿，呈指数级增长，同时生产掩模版的时间成本也大幅增加。如果不能在制造掩模版前就保证其设计有足够高的品质，重新优化设计并再次制造一批掩模版将增加巨大的...

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光源掩模协同优化的原理与应用
2023-8-1 11:16

由于SMO优化的结果是要应用到整块芯片上去的，而对所有的图形进行SMO是极为耗时的，因此，我们需要使用关键图形筛选技术提前将重复或者冗余的图形剔除，以保证优化的速度。...

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