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发布了文章 2022-12-9 11:33

一文解析MOSFET到MISHEMT的技术

使用肖特基势垒门控制电流当栅极电压为正时一导通。...

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发布了文章 2022-12-1 10:26

光电子器件仿真流程解析

工艺仿真中所生成的网格是用来形成精确度掺杂浓度分布、结的深度等以适合于工艺级别的网格，这些网格某些程度上不是计算器件参数所必需的。...

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发布了文章 2022-11-29 10:22

基本功率集成电路工艺详解

基本功率集成电路工艺详解...

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发布了文章 2022-11-22 10:44

一文详解离子束工艺技术

　二次离子质谱（SIMS）是一种分析方法。具有高空间分辨率和高灵敏度的工具。它使用高度聚焦的离子束（通常是氧气或（无机样品用铯离子）“溅射”样品表面上选定区域的材料。...

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发布了文章 2022-11-21 10:22

关于电子束光刻工艺技术解读

束流消除器：两个平行板电极之间的直流偏置(~42 v)是否垂直于电子路径，使电子偏离轴，从而“转动”关闭/阻塞/被下面的孔所覆盖。...

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发布了文章 2022-11-17 10:47

全面解析元器件使用可靠性控制技术

随着时间的推移，无论元器件是否处于工作状态，其性能都会由于各种内外部条件的影响而发生一些变化，其可靠性水平会随着工作时间的延长而缓慢下降。...

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发布了文章 2022-11-14 11:27

浅析氮化镓器件驱动设计技术

　　Driver Supply - Conventional Bipolar Driver 　　驱动电源-常规双极驱动程序　　GaN GIT （Gate Injection Transistor） Support 　　GaN GIT...

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