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小范

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半导体有机酸清洗液中的铜的蚀刻速率和氧化机理分析 2022-01-13 14:02

引言用电化学和原子力显微镜方法对有机酸与铜的相互作用进行了表征可以建立用于湿铜加工的高效清洗公式。本文研究了单有机酸、二有机酸和三有机酸中铜的蚀刻速率和氧化机理。除了草酸的钝化性能外，其他铜的电化学行为都观察出类似的电化行为。有机酸与稀释的氢氟酸的相互作用，显著降低了铜的溶解速率。实验电化学分析：实验在石英晶体铂电极上450nm电化学沉积的铜膜上进行了实验。铜表面约为0.2cm2，在三个电极电化学电池中作为工作

华林科纳半导体设备制造

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国产替代关键时刻！350笔2021年半导体投资，大笔撒钱，定大格局 2022-03-06 07:19

电子发烧友网报道（文/李弯弯、黄晶晶）过去一年，半导体行业投融资仍然活跃，电子发烧友共统计到350笔融资，其中也有些企业一年之中数次获得融资，融资情况覆盖产业链的各个环节，从IC设计、制造、封测，到半导体材料、设备。涉及的产品类别包括人工智能芯片、传感器、模拟芯片、碳化硅和氮化镓相关材料器件、物联网领域相关芯片、MCU、射频芯片、功率半导体器件、毫米波雷达和激光雷达、光学相关芯片、显示驱动芯片、存储芯片、

李弯弯

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如何用keilc51--单片机程序第一节 2022-01-10 13:51

KEILC51 建立文件。

Miya2

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