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工程师 苏州汶颢微流控技术股份有限公司
江苏省 苏州市 设计开发工程
  • 光刻掩模是光的一种掩蔽模片,其作用有类似于照相的通过它,可以使它“底下“的光剂部分成光,难溶于有机药品,一部分不感光,易溶于有机药品,以而制得选择扩散所需的窗口和互速所需的图案。 掩膜版有两种:一种是在涂有普通乳胶的照相...
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  • 微量注射泵在微流控领域是最经常使用的一种流量控制系统,微流注射泵的参考图片如下图所示。微量注射泵可分为两类:经典注射泵—价格便宜但是会产生流量振荡;无脉动的微流控微量注射泵—价格偏贵但是可以提供更高的流量稳定性。本文中,...
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  • 微流控技术的核心思想,是以最小的消耗来获得最大的产出,仅需极少的样本采集便可获得所需的各项信息。具体来讲,微流控追求的是最小的反应体系(皮升、纳升级别),保持最低的试剂和样品消耗,并行最多的独立反应,同时保持反应体系的封...
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  • 微流控芯片大致可以分为三种类型:PDMS芯片、聚合物芯片(COC、PMMA、PC等)和玻璃芯片。三种不同类型的芯片各有不同的加工方法。本文主要介绍PDMS芯片加工的软光刻/软刻蚀技术(soft lithography t...
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  • 在微流控PDMS芯片加工的过程中,需要使用烘胶台或者烤胶设备对SU-8光刻胶或PDMS聚合物进行烘烤。SU-8光刻胶的烘烤通常需要进行2-3次。本文简要介绍SU-8光刻胶烘烤的注意事项。 微流控SU-8光刻胶烘烤:软烘、...
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  • 在微流控PDMS芯片或SU-8模具制作的过程中,需要把PDMS胶或SU-8光刻胶根据所需要的厚度来选择合适的旋涂转速并且使PDMS胶或SU-8胶涂布均匀化。 如何成功的旋涂微流控SU-8光刻胶? 基底上SU-8光刻胶的图...
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  • 为了成功紫外曝光并且根据所需要的分辨率,光刻胶掩模必须尽可能的靠近SU-8光刻胶放置,不要有任何干扰。如要这样做,可检查如下几件事。 首先,光掩模和晶圆之间的灰尘或任何其他元素的存在都会导致不完美的接触。在曝光的过程中,...
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  • 微流控PDMS芯片通常采用等离子体处理的方法,不同的处理参数会影响到PDMS芯片的键合强度。良好的键合牢固的芯片的耐压强度可以达到3-5 bars的耐压值。本文将简要介绍PDMS-玻璃等离子体键合工艺过程中需要留意的注意...
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  • 微反应器采用微加工制造技术,设计通道尺度在10μm~3mm范围的流动化学反应器。由于微反应器较小的通道尺寸,较短的传质距离和较高的比表面积等优点,微反应器可以提供更快速的混合效果、更优异的换热性能、更精准的温度控制、从而...
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  • 半导体掩膜版制造工艺及流程 掩膜版(Photomask)又称光罩,是液晶显示器、半导体等制造过程中的图形“底片”转移用的高精密工具。光掩膜基版是制作微细光掩膜图形的理想感光性空白板,被刻蚀上掩膜图形之后就成为光掩膜版。掩...
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  • 大家都知道掩膜版主要由基板、遮光层和保护膜组成,其中基板(主要采用玻璃基材,包括石英 和苏打两种材质)占直接原材料成本比重达90%。 那么什么是掩膜版保护膜大家知道吗? 掩膜版保护膜,mask pellicle,是一种透...
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  • 微流控光刻掩膜在微流控芯片制造中扮演着至关重要的角色。它的主要作用是通过曝光和显影等工序,将掩膜上已设计好的图案转移到衬底的光刻胶上,进行图像复制,从而实现批量生产。 掩膜版介绍 微电子制造过程中的图形转移母版掩膜版(P...
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  • 一、微流控芯片相关技术 1、微液滴技术 微液滴操控包括微液滴生成和微液滴驱动,按生成方式可以将操控微液滴的方法分为两大类。一类是被动法,即通过对微通道结构的特别设计使液流局部产生速度梯度来对微液滴进行操控,主要为多相流法...
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  • 微流控芯片 键合前PMMA的表面处理 在粘合之前对被粘接物表面进行处理是粘合工艺中最重要的环节之一。初始的粘接强度和耐久性完全取决于胶粘剂接触的表面类型。被粘接物处理的程度和使用环境与极限粘接强度有关。在许多低强度到中等...
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  • 微反应器设备根据其主要用途或功能可以细分为微混合器,微换热器和微反应器。由于其内部的微结构使得微反应器设备具有极大的比表面积,可达搅拌釜比表面积的几百倍甚至上千倍。微反应器有着很好的传热和传质能力,可以实现物料的瞬间均匀...
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