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学生 西北工业大学
陕西省 西安市 学术研究/学生
  • 半导体生产过程中的某些工艺涉及气体与半导体基片的反应,比如沉积工艺和刻蚀工艺,气体的流量将对工艺结果产生重要影响。为了使生产的半导体获得较高的良品率,必须对流入反应腔室的气体流量进行精确控制,尤其是随着半导体工艺集成度的不断提高,对气体流量的误差要求也进一步提高。 质量流量控制器MFC,是一种用于对气体流量进行精确测量和控制的器件,其不但具有质量流量计的功能,更重要的是能自动控制气体流量,即用户可根据需要
    vogreat
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