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辉子无敌1

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存储技术变局为中国制造带来了什么机遇?
2012-5-7 09:49

我们迎来新一轮的存储技术变局---以NAND FLASH为代表的半导体存储技术会给我们的本土企业带来了什么机遇?这里结合自己的体会聊做分析。一、对NAND FLASH应用前景的展望 NAND FLASH 首先是...

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对话Vishay:如何以专注赢得竞争优势?
2012-5-7 09:32

由于需求和工艺的发展，很多半导体公司创立之初的业务经过多年的发展后总会发生很大变化，不过，有一家公司却是个例外，50年前，Felix Zandman博士创立了Vishay公司，生产高精密电阻...

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专访Altera副总裁胡勇冕：SoC FPGA瓜分嵌入式大饼
2012-5-7 09:32

由于需求和工艺的发展，很多半导体公司创立之初的业务经过多年的发展后总会发生很大变化，不过，有一家公司却是个例外，50年前，Felix Zandman博士创立了Vishay公司，生产高精密电阻...

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2013年下届慕尼黑电子展即将上演
2012-5-7 09:17

第十一届慕尼黑上海电子展electronica China和慕尼黑上海电子生产设备展productronica China已完美落下帷幕，今年展览会现场突破性地有来自19个国家与地区的664家展商，同比增长38%，向41...

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用于相变存储器的GeSbTe MOCVD共形淀积
2012-5-4 17:14

本文介绍了从开发成熟的MOCVD淀积GST材料性质获得的电学特性。...

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高介电常数栅电介质/金属栅极的FA CMP技术
2012-5-4 17:11

高介电常数栅电介质和金属栅极技术(以下简称HKMG)使摩尔定律在45/32纳米节点得以延续。目前的HKMG工艺有两种主流整合方案，分别是先栅极和后栅极。后栅极又称为可替换栅极(以下简称...

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上腔室窗口温度对STI刻蚀工艺的影响
2012-5-4 17:09

本文在浅沟槽隔离刻蚀过程中发现，当刻蚀腔室上石英窗口的温度超过85℃时，刻蚀终止出现在300mm晶圆的中心。我们认为刻蚀终止的原因是由于某些低挥发SiOxCly刻蚀产物再淀积。石英...

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光学光刻和EUV光刻中的掩膜与晶圆形貌效应
2012-5-4 16:28

对先进光刻掩膜光衍射的精密EMF模拟已成为预知光刻模拟的必做工作。...

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先进3D芯片堆叠的精细节距微凸点互连
2012-5-4 16:26

本文研究主要考虑基于CuSn金属互化物的微凸点(bump)作为芯片堆叠的手段。系统研究了形成金属互化物凸点连接的两种方法。一：瞬时液相(TLP)键合，在此过程中，全部Sn焊料熔化，随后...

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快速恢复二极管打火问题的优化设计
2012-5-4 16:13

通过对平面性电力半导体器件快速恢复二极管场限环击穿电压电势的分析和优化，指出原有设计的缺陷，提出了新的优化方法，...

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TTL型看门狗电路
2012-5-4 16:09

由CD4060和32．768Hz石英晶振组成脉冲产生电路，产生4Hz脉冲源。74LS293计数器对4Hz脉冲源进行计数，其输出端Q与单片机复位端RESET相连，单片机的某I／O端与74LS293的清零端R相连，程序在1．...

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uP监视器构成看门狗电路
2012-5-4 16:01

MAX706的内部看门狗定时器定时时间为1．6秒，如果在1．6秒内，看门狗输入脚WDI保持为规定电平(高电平或低电平)，看门狗输出端丽变为低电平，二极管D导通，使低电平加到复位端，MA...

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LED灯具检测及改善
2012-5-4 10:17

文章介绍了通过Vf-TJ 曲线的标出并控制LED 在控定的结温下测量其光、色、电参数不仅对采用LED的照明器具的如何保证LED 工作结温提供了目标限位，同时也使LED 及其模块的光、色、电参...

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用厚膜技术最佳化大功率LED
2012-5-4 10:14

根据美国能源部能源效率和可再生能源办公室提供的资讯，散热是成功设计LED系统的最重要因素之一。发光二极管只能将20%到30%的电能转化为可见光，其余转化为热量，必须从LED芯片导...

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LED日光灯常见安规问题分析
2012-5-4 10:08

目前常见的LED日光灯，外型尺寸上基本参照T8、T10的日光灯进行设计，不同的地方主要在于光源使用材料不同，LED日光灯有内置电源(也不排除有些设计成电源外置)而传统双端荧光灯靠外...

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