电力
电子世界在1959年取得突破,当时Dawon Kahng和Mar
tin Atalla在贝尔实验室发明了金属氧化物
半导体场效应晶体管(MOSFET)。首款商业MOSFET在五年后发布生产,从那时起,几代MOSFET晶体管使
电源设计人员实现了双极性早期产品不可能实现的性能和密度级别。然而,近年来,这些已取得的进步开始逐渐弱化,为下一个突破性技术创造了空间和需求。这就是氮化镓(GaN)引人注目的地方。作为一种宽带隙晶体管技术,GaN正在创造一个令人兴奋的机会,以实现电力电子系统达到新的性能和效率。GaN的固有优势为工程师开启了重新考虑功率密度的方法,这些方法在以前并不可能实现,如今能满足世界日益增长的电力需求。在这篇文章中,我将探讨如何实现。 为何选择GaN?当涉及功率密度时,GaN为硅MOSFET提供了几个主要优点和优势,包括:•较低的RDS(on):如表1所示…