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国科大《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》课程分享之二:浸没式光刻工艺缺陷种类、特征及自识别方法

中国科学院大学(以下简称国科大)微电子学院是国家首批支持建设的示范性微电子学院,国科大微电子学院开设的《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》课程是国内少有的研究讨论光刻技术的研究生课程,而开设课程的韦亚一研究员及其团队具有多年的学术界及工业界的光刻技术经验积累,并出版有多本专著,其中《计算光刻与版图优化》一书更是列入中国科学院大学研究生教学辅导书系列。本号获授权将陆续介绍《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》课程中学生的一些专题调研结果,以及《计算光刻与版图优化》书籍相关内容,未经许可,禁止转载。

回帖(1)

laowu2021

2021-10-30 16:57:49
感谢信分享,下来学习。
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