绝缘材料
数字隔离器采用晶圆CMOS工艺制造,仅限于常用的晶圆材料。非标准材料会使生产复杂化,导致可制造性变差且成本提高。常用的绝缘材料包括聚合物(如聚酰亚胺PI,它可以旋涂成薄膜)和二氧化硅(SiO2)。二者均具有众所周知的绝缘特性,并且已经在标准半导体工艺中使用多年。聚合物是许多光耦合器的基础,作为高压绝缘体具有悠久的历史。
图1. 带厚聚酰亚胺绝缘层的变压器,电流脉冲产生磁场,在另一个线圈中感生电流(左图);带薄SiO2绝缘层的电容,利用低电流电场将数据耦合到隔离栅的另一端(右图) 表1. 基于聚合物/聚酰亚胺的隔离器可提供最佳的隔离特性
安全标准通常规定1分钟耐压额定值(典型值2.5 kV rms至5 kV rms)和工作电压(典型值125 V rms至400 V rms)。某些标准也会规定更短的持续时间、更高的电压(如10 kV峰值并持续50 µs)作为增强绝缘认证的一部分要求。基于聚合物/聚酰亚胺的隔离器可提供最佳的隔离特性,如表1所示。基于聚酰亚胺的数字隔离器与光耦合器相似,在典型工作电压时寿命更长。基于SiO2的隔离器对浪涌的防护能力相对较弱,不能用于医疗和其他应用。
各种薄膜的固有应力也不相同。聚酰亚胺薄膜的应力低于SiO2薄膜,可以根据需要增加厚度。SiO2薄膜的厚度有限,因而隔离能力也会受限;超过15 µm时,应力可能会导致晶圆在加工过程中开裂,或者在使用期间分层。基于聚酰亚胺的数字隔离器可以使用厚达26 µm的隔离层。
绝缘材料
数字隔离器采用晶圆CMOS工艺制造,仅限于常用的晶圆材料。非标准材料会使生产复杂化,导致可制造性变差且成本提高。常用的绝缘材料包括聚合物(如聚酰亚胺PI,它可以旋涂成薄膜)和二氧化硅(SiO2)。二者均具有众所周知的绝缘特性,并且已经在标准半导体工艺中使用多年。聚合物是许多光耦合器的基础,作为高压绝缘体具有悠久的历史。
图1. 带厚聚酰亚胺绝缘层的变压器,电流脉冲产生磁场,在另一个线圈中感生电流(左图);带薄SiO2绝缘层的电容,利用低电流电场将数据耦合到隔离栅的另一端(右图) 表1. 基于聚合物/聚酰亚胺的隔离器可提供最佳的隔离特性
安全标准通常规定1分钟耐压额定值(典型值2.5 kV rms至5 kV rms)和工作电压(典型值125 V rms至400 V rms)。某些标准也会规定更短的持续时间、更高的电压(如10 kV峰值并持续50 µs)作为增强绝缘认证的一部分要求。基于聚合物/聚酰亚胺的隔离器可提供最佳的隔离特性,如表1所示。基于聚酰亚胺的数字隔离器与光耦合器相似,在典型工作电压时寿命更长。基于SiO2的隔离器对浪涌的防护能力相对较弱,不能用于医疗和其他应用。
各种薄膜的固有应力也不相同。聚酰亚胺薄膜的应力低于SiO2薄膜,可以根据需要增加厚度。SiO2薄膜的厚度有限,因而隔离能力也会受限;超过15 µm时,应力可能会导致晶圆在加工过程中开裂,或者在使用期间分层。基于聚酰亚胺的数字隔离器可以使用厚达26 µm的隔离层。
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