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用于氧化/扩散/退火的基本设备有三种：卧式炉、立式炉和快速升温炉（RTP）

氧化/扩散/退火设备是半导体制造环节中的重要热工艺设备。

氧化是将硅片放置于氧气或水汽等氧化剂的氛围中进行高温热处理，在硅片表面发生化学反应形成氧化膜的过程。

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