嵌入式闪存支持EEPROM功能
传统的EEPROM架构支持字节写操作,因而常常被需要频繁更新数据的应用程序所用。通常,嵌入式闪存是按一定规则排列的一组存储单元,又称为扇区。扇区需要在写入新数据前完全擦除。幸运的是,我们可以使用SRAM缓冲器在整个嵌入式闪存区的一小部分上模拟EEPROM功能,既简单并且对用户透明。
这经常让人们误认为嵌入式闪存不能满足EEPROM耐用性要求。然而,EEPROM的耐擦写次数通常可达到100万次。过去,大多数MCU和智能卡应用所要求的耐擦写次数均低于10万次,但近来诸如SIM卡等应用的要求越发严格,耐擦写次数需达到50万次(典型值)。为了支持这一要求,我们通过第三代SuperFlash技术(ESF3)提供比前两代技术更好的耐擦写特性,并且大量的数据显示,第三代技术能够满足这些应用所要求的50万次耐擦写次数。
图2 第3代嵌入式SuperFlash(ESF3) 嵌入式闪存是可以扩展的十年以前,纷纷流传嵌入式闪存无法突破90nm以下节点,理由是存储单元扩展面临诸多困难和挑战。可如今嵌入式闪存已发展到28nm级,因此证明上述看法是错误的。现在面临的挑战是将嵌入式闪存迈入FinFet工艺时代。不过,诸如Samsung和GLOBALFOUNDRIES等代工厂正专注于平面22 nm技术节点(甚至更小)的FDSOI技术,可能会使嵌入式闪存的使用寿命比28nm节点更长。
对于指令代码应用,不可以用OTP代替嵌入式闪存一些集成电路需要使用片上指令代码进行性编程,该编程可以在使用现场进行,也可以在交付客户之前在晶圆级测试或封装完成后在终测试时完成。虽然OTP解决方案似乎足以符合非易失性存储器的性编程要求,但实际操作时它存在一些严重的用户体验和可靠性问题。首先,大型存储块的OTP编程需要使用多个冗余位和相关的冗余管理电路,存在难以解决的效率低下难题。额外增加的复杂性也令芯片设计人员伤透脑筋。其次,嵌入式闪存工艺专门针对长期数据可靠性而进行了优化,与之相比,采用OTP解决方案的大型存储块提供的数据保留时间通常没有任何优势。原因是对大型OTP存储块进行编程有一些不确定性,产生的尾位会对读取造成影响。
嵌入式闪存是可扩展的,并且可用于众代工厂的先进技术节点通常情况下,嵌入式闪存比技术节点晚两代,因为其主要由非易失性存储器解决方案需求推动,而诸如14nm Finfet等节点是由高端SoC、高性能计算和图形处理器推动,这些不需要片上嵌入式闪存。近,嵌入式闪存在逻辑节点的可用性方面已经迈出了一大步。2012年,纯代工厂只能提供90 nm级嵌入式闪存。但在过去四年间,在许多的代工厂(见图1)中以及在高端汽车和IoT解决方案的研发过程中,嵌入式闪存达到了28nm级。这种飞跃式的发展主要是由汽车应用推动的,汽车应用要求针对技术节点使用汽车MCU。
汽车、移动和IoT应用正在推动单片机和其他闪存器件发展,闪存市场已经增长到220亿美元左右。为了在这一细分市场上占据一席之地,许多代工厂已经启用了嵌入式闪存平台或者正在积极努力之中,包括GLOBALFOUNDRIES、HHGrace、LFoundry、SilTerra、TSMC、UMC、Vanguard XFAB以及XMC,将来还有更多成员加入。
图3 技术节点和相关代工厂 所有无晶圆厂的IDM和许多只有小规模晶圆厂的IDM都在与纯代工厂进行合作。不过,IDM都有自己的制造设备,可以根据产品集和可用技术,选择自己生产或外包给纯代工厂。许多一流IDM选择了在其自己的代工厂部署SST的嵌入式闪存技术,目的是为了能够定制一系列技术节点的差异化产品。
嵌入式闪存支持EEPROM功能
传统的EEPROM架构支持字节写操作,因而常常被需要频繁更新数据的应用程序所用。通常,嵌入式闪存是按一定规则排列的一组存储单元,又称为扇区。扇区需要在写入新数据前完全擦除。幸运的是,我们可以使用SRAM缓冲器在整个嵌入式闪存区的一小部分上模拟EEPROM功能,既简单并且对用户透明。
这经常让人们误认为嵌入式闪存不能满足EEPROM耐用性要求。然而,EEPROM的耐擦写次数通常可达到100万次。过去,大多数MCU和智能卡应用所要求的耐擦写次数均低于10万次,但近来诸如SIM卡等应用的要求越发严格,耐擦写次数需达到50万次(典型值)。为了支持这一要求,我们通过第三代SuperFlash技术(ESF3)提供比前两代技术更好的耐擦写特性,并且大量的数据显示,第三代技术能够满足这些应用所要求的50万次耐擦写次数。
图2 第3代嵌入式SuperFlash(ESF3) 嵌入式闪存是可以扩展的十年以前,纷纷流传嵌入式闪存无法突破90nm以下节点,理由是存储单元扩展面临诸多困难和挑战。可如今嵌入式闪存已发展到28nm级,因此证明上述看法是错误的。现在面临的挑战是将嵌入式闪存迈入FinFet工艺时代。不过,诸如Samsung和GLOBALFOUNDRIES等代工厂正专注于平面22 nm技术节点(甚至更小)的FDSOI技术,可能会使嵌入式闪存的使用寿命比28nm节点更长。
对于指令代码应用,不可以用OTP代替嵌入式闪存一些集成电路需要使用片上指令代码进行性编程,该编程可以在使用现场进行,也可以在交付客户之前在晶圆级测试或封装完成后在终测试时完成。虽然OTP解决方案似乎足以符合非易失性存储器的性编程要求,但实际操作时它存在一些严重的用户体验和可靠性问题。首先,大型存储块的OTP编程需要使用多个冗余位和相关的冗余管理电路,存在难以解决的效率低下难题。额外增加的复杂性也令芯片设计人员伤透脑筋。其次,嵌入式闪存工艺专门针对长期数据可靠性而进行了优化,与之相比,采用OTP解决方案的大型存储块提供的数据保留时间通常没有任何优势。原因是对大型OTP存储块进行编程有一些不确定性,产生的尾位会对读取造成影响。
嵌入式闪存是可扩展的,并且可用于众代工厂的先进技术节点通常情况下,嵌入式闪存比技术节点晚两代,因为其主要由非易失性存储器解决方案需求推动,而诸如14nm Finfet等节点是由高端SoC、高性能计算和图形处理器推动,这些不需要片上嵌入式闪存。近,嵌入式闪存在逻辑节点的可用性方面已经迈出了一大步。2012年,纯代工厂只能提供90 nm级嵌入式闪存。但在过去四年间,在许多的代工厂(见图1)中以及在高端汽车和IoT解决方案的研发过程中,嵌入式闪存达到了28nm级。这种飞跃式的发展主要是由汽车应用推动的,汽车应用要求针对技术节点使用汽车MCU。
汽车、移动和IoT应用正在推动单片机和其他闪存器件发展,闪存市场已经增长到220亿美元左右。为了在这一细分市场上占据一席之地,许多代工厂已经启用了嵌入式闪存平台或者正在积极努力之中,包括GLOBALFOUNDRIES、HHGrace、LFoundry、SilTerra、TSMC、UMC、Vanguard XFAB以及XMC,将来还有更多成员加入。
图3 技术节点和相关代工厂 所有无晶圆厂的IDM和许多只有小规模晶圆厂的IDM都在与纯代工厂进行合作。不过,IDM都有自己的制造设备,可以根据产品集和可用技术,选择自己生产或外包给纯代工厂。许多一流IDM选择了在其自己的代工厂部署SST的嵌入式闪存技术,目的是为了能够定制一系列技术节点的差异化产品。
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