RF-SOI在Sub-6GHz频段的应用机遇
射频SOI(RF-SOI)将延续其在4G应用的技术和市场优势,继续成为5G Sub-6GHz频段手机射频开关的主流解决方案,原因如下:
1) RF-SOI已经牢牢把控4G手机射频开关市场。
图2 RF-SOI市场
相比传统的砷化镓(GaAs)和蓝宝石上硅(SOS)技术,RF-SOI可以同时提供优良的射频性能和低廉的成本。正是基于以上优势,作为移动智能终端前端模块中的关键器件之一,射频开关芯片从2013年已经舍弃原来的GaAs和SOS工艺,转而采用低成本的RF-SOI工艺。RF-SOI技术目前已经成为4G手机开关类RF应用的主流技术,其市占率已经超过95%(图2)。
在Sub-6 GHz频段,5G将会在现有成熟的4G通信基础上延拓,因此,尽管复杂性会大幅度增加,5G使用的技术和设备将与4G类似。经过近5年的发展,基于RF-SOI技术的射频开关市场已经被Qorvo、psemi、Skyworks等IDM公司垄断。这些射频厂商有充足的技术积累和市场优势,这为RF-SOI技术快速切入5G Sub-6GHz频段应用打下了坚实的基础。
2)RF-SOI制造业已经开始进军5G。
为了满足5G超高的下行速率标准,相较于4G中最高支持5个20MHz的载波聚合,进入5G时代,载波聚合的数量可能会高达32个或者64个。这对手机射频开关的线性度等关键性能指标提出更高的要求。近几年,RF-SOI衬底的主要供应商Soitec公司一直致力于开发更高性能、更大尺寸的RF-SOI衬底,以满足未来5G的需求:Soitec已经开发出谐波水平(用于表征线性度的参量)低于-100dBm(输入功率为15dBm时)超高线性度的RF-SOI衬底材料,满足未来5G开关设计的需求(图3);当前,制造4G及以下射频开关使用的大都是200mm RF-SOI衬底,不能兼容最新的纳米级CMOS工艺,这影响了经济效益和器件性能的提高。因此,从2016年开始,Soitec公司就积极将RF-SOI衬底尺寸向主流的300mm升级。Soitec位于本土的Bernin 2厂已经开始大批量供应300mm大尺寸的RF-SOI衬底片,以满足TowerJazz、GlobalFoundries等代工厂更高节点的制造需求。
于此同时,在代工端,GlobalFoundries推出了基于130nm节点的8SW射频开关制造工艺,是业内第一个300mm RF-SOI代工平台。8SW开关采用铜互联,降低了开关速度,提升了功率容量,满足5G Sub-6GHz的应用需求。另外,近期TowerJazz宣布其65nm RF-SOI技术已在位于日本鱼津的300mm工厂实现量产,这进一步增强了RF-SOI的市场潜力。
图3 RF-SOI的谐波水平(输入功率为900MHz)
分析可知,RF-SOI在4G手机射频开关应用中占有绝对的市场优势;而高性能、大尺寸的RF-SOI衬底制备和射频开关代工技术已经证明能够满足5G Sub-6 GHz应用的性能和产能需求,未来RF-SOI无疑将把持5G Sub-6GHz下的手机射频开关市场。
RF-SOI在Sub-6GHz频段的应用机遇
射频SOI(RF-SOI)将延续其在4G应用的技术和市场优势,继续成为5G Sub-6GHz频段手机射频开关的主流解决方案,原因如下:
1) RF-SOI已经牢牢把控4G手机射频开关市场。
图2 RF-SOI市场
相比传统的砷化镓(GaAs)和蓝宝石上硅(SOS)技术,RF-SOI可以同时提供优良的射频性能和低廉的成本。正是基于以上优势,作为移动智能终端前端模块中的关键器件之一,射频开关芯片从2013年已经舍弃原来的GaAs和SOS工艺,转而采用低成本的RF-SOI工艺。RF-SOI技术目前已经成为4G手机开关类RF应用的主流技术,其市占率已经超过95%(图2)。
在Sub-6 GHz频段,5G将会在现有成熟的4G通信基础上延拓,因此,尽管复杂性会大幅度增加,5G使用的技术和设备将与4G类似。经过近5年的发展,基于RF-SOI技术的射频开关市场已经被Qorvo、psemi、Skyworks等IDM公司垄断。这些射频厂商有充足的技术积累和市场优势,这为RF-SOI技术快速切入5G Sub-6GHz频段应用打下了坚实的基础。
2)RF-SOI制造业已经开始进军5G。
为了满足5G超高的下行速率标准,相较于4G中最高支持5个20MHz的载波聚合,进入5G时代,载波聚合的数量可能会高达32个或者64个。这对手机射频开关的线性度等关键性能指标提出更高的要求。近几年,RF-SOI衬底的主要供应商Soitec公司一直致力于开发更高性能、更大尺寸的RF-SOI衬底,以满足未来5G的需求:Soitec已经开发出谐波水平(用于表征线性度的参量)低于-100dBm(输入功率为15dBm时)超高线性度的RF-SOI衬底材料,满足未来5G开关设计的需求(图3);当前,制造4G及以下射频开关使用的大都是200mm RF-SOI衬底,不能兼容最新的纳米级CMOS工艺,这影响了经济效益和器件性能的提高。因此,从2016年开始,Soitec公司就积极将RF-SOI衬底尺寸向主流的300mm升级。Soitec位于本土的Bernin 2厂已经开始大批量供应300mm大尺寸的RF-SOI衬底片,以满足TowerJazz、GlobalFoundries等代工厂更高节点的制造需求。
于此同时,在代工端,GlobalFoundries推出了基于130nm节点的8SW射频开关制造工艺,是业内第一个300mm RF-SOI代工平台。8SW开关采用铜互联,降低了开关速度,提升了功率容量,满足5G Sub-6GHz的应用需求。另外,近期TowerJazz宣布其65nm RF-SOI技术已在位于日本鱼津的300mm工厂实现量产,这进一步增强了RF-SOI的市场潜力。
图3 RF-SOI的谐波水平(输入功率为900MHz)
分析可知,RF-SOI在4G手机射频开关应用中占有绝对的市场优势;而高性能、大尺寸的RF-SOI衬底制备和射频开关代工技术已经证明能够满足5G Sub-6 GHz应用的性能和产能需求,未来RF-SOI无疑将把持5G Sub-6GHz下的手机射频开关市场。
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