人工智能
直播中

洪子云

7年用户 197经验值
私信 关注
[问答]

LOCOS和STI的区别是什么

什么是LOCOS  
什么是Sti  
LOCOS和STI的区别  




回帖(3)

刘彦妤

2020-12-29 11:32:17
  LOCOS:
  硅局部氧化隔离(Local Oxidation of Silicon)技术,是20世纪70年代提出的一种CMOS硅工艺中常用的器件隔离技术。CMOS工艺最常用的隔离技术就是LOCOS(硅的选择氧化)工艺,它以氮化硅为掩膜实现了硅的选择氧化,在这种工艺中,除了形成有源晶体管的区域以外,在其它所有重掺杂硅区上均生长一层厚的氧化层,称为隔离或场氧化层。常规的LOCOS工艺由于有源区方向的场氧侵蚀(SiN边缘形成类似鸟嘴的结构,称为“鸟喙效应 bird beak”)和场注入的横向扩散,使LOCOS工艺受到很大的限制。
举报

李叱镡

2020-12-29 11:32:40
  STI:
  浅槽隔离(shallow trench isolation),简称STI。是在衬底上制作的晶体管有源区之间隔离区的一种可选工艺,通常用于亚0.25um工艺以下,利用掩模完成选择性氧化,主要绝缘材料是淀积SiO₂,
  浅槽隔离主要分为三个部分:槽刻蚀,氧化硅填充,氧化硅平坦化。
  1)槽刻蚀
  (1)隔离氧化硅生成:氧化硅用于保护有源区在去掉氮化硅时免受化学污染
  (2)氮化硅(Si₃N₄)淀积:氮化硅是坚硬的掩模材料,有助于保护STI氧化硅淀积过程中保护有源区;在化学机械抛光(CMP)中充当阻挡材料
  (3)浅槽刻蚀:用氟基和氯基气体离子刻蚀
  2)氧化硅填充
  (1)沟槽衬垫氧化硅:高温生长一层150A的氧化硅
  (2)浅槽CVD氧化物填充:淀积氧化硅
  3)氧化硅平坦化
  所以:
  .35um 用的是LOCOS工艺
  .18 .13 用的是STI工艺
举报

叶紫薇

2020-12-29 11:33:12
  LOCOS和STI的区别:
  LOCOS主要绝缘材料是生长SiO₂;STI主要绝缘材料是淀积SiO₂,所以LOCOS容易产生鸟嘴效应。
举报

更多回帖

发帖
×
20
完善资料,
赚取积分