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赛迪智库半导体研究所副所长林雨就此向《中国电子报》记者解释:“光刻是芯片制造技术的主要环节之一。目前主流的芯片制造是基于193nm光刻机进行的。然而193nm浸没光刻技术很难支撑40nm以下的工艺生产,因此到了22/20nm及以下工艺节点,小马法务商城fawu.ma.cn不得不将193nm液浸技术和各种多重成像技术结合起来使用,以便突破工艺极限。但是采用多重成像的手段就需要进行多次光刻、蚀刻、淀积等流程,无形中提升了制造成本,拉长了工艺周期。” 因此,EUV技术实质上是通过提升技术成本来平衡工序成本和周期成本。例如,按照格罗方德的测算,启用EUV技术,在7nm和5nm节点,都仅需要1个光罩即可生产。这样理论上来说,就可以起到简化工艺流程,减少生产周期的作用。 对此,芯谋研究总监王笑龙便指出:“EUV技术的研发主要是针对传统工艺中多次曝光等繁琐问题。在过去的技术中,曝光过程可能重复2~3次,但是EUV技术可以一次完成,既减少了工序,又节约了时间。在简化工艺流程、缩短生产周期的同时,EUV也增加了产能,提升了效率。” 中国购买为时尚早 针对EUV,在国内流传着一种声音:受西方《瓦森纳协议》的限制,中国只能买到ASML的中低端产品,出价再高,也无法购得ASML的高端设备。日前,ASML中国区总裁金泳璇在接受《中国电子报》记者采访时否认了这一说法。据金泳璇透漏:“国内某知名半导体晶圆厂现已与ASML展开7nm工艺制程EUV订单的商谈工作,第一台EUV设备落户于中国指日可待。” 这就是说,EUV要进口到中国并没有受到限制。但是,EUV技术进入中国最大的问题可能并非受限与否,而是有没有必要现在购买?由于EUV开发的技术难度极高,特别是EUV光源的功率不足,导致曝光时间过长,使得EUV一直很难得到实用,目前国际上EUV技术较为成熟的企业只有ASML一家,其销售的EUV价格极为高昂,一台售价超过1亿欧元。而目前EUV的主要应用范围是7nm以下工艺节点,尤其5nm工艺节点的晶圆制造。 |
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