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现在我们遇到一个问题，我们把以前的在CSMC做的一个项目的电路直接换成SMIC的PDK库，MOS的L和W等参数都转过来了，但Drain diffusion area,Source diffusion area,Drain diffusion periphery ,Source diffusion periphery等参数没有根据L,W做相应的调整，而是统一的默认值。但电路设计师手动去点击该NMOS的属性，把W或者L做改动，Drain diffusion area,Source diffusion area,Drain diffusion periphery ,Source diffusion periphery等参数就马上会随W和L改变，请问怎么处理？谢谢！ 
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