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[讨论] 光刻及资料分享—Optical Lithography
2014-9-26 10:35:02  7486
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本帖最后由 iweimo 于 2014-10-20 15:07 编辑

先分享光刻的参考资料。

      

============================2014-10-17========
光刻分类
捕获.JPG
如上图所示,光刻可分为三类,接触光刻、接近光刻和投影光刻。
接触光刻:顾名思义,mask和wafer是相互接触的,这种方式能保证较高的resolution(接近波长),但是缺点很明显,mask容易损坏。
接近光刻:mask和wafer保持了一定距离,从而保护了mask,但是牺牲了resolution(~(根号gλ))g=mask-wafer之间距离。
投影光刻:通过投影的方式将mask的图案转移到wafer上。结合了前两者的优点,并克服了前两者的缺点。Resolution=k1λ/NA
============================2014-10-20========
常用的光源有
水银灯:波长300~500nm
KrF:波长248.8nm
ArF:波长193nm

衍射效应对光刻图案的影响
       捕获.JPG
左图是理想的光强分布,由于光的衍射效应,实际的光强分布如右图所示。当光的波长与mask的特征尺寸可比时,会产生明显的衍射效应。
         捕获.JPG
如上图所示,透过mask的光相互叠加,使得不该受到光照的区域被曝光。
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2014-9-26 10:35:02   评论
21 个讨论
版主终于分享好的资料了,等版主等的好辛苦啊
2014-9-26 10:46:34 评论

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二霸 发表于 2014-9-26 10:46
版主终于分享好的资料了,等版主等的好辛苦啊

你是研究什么的?
2014-9-26 14:25:43 评论

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版主终于分享好的资料了,等版主等的好辛苦啊
2014-10-20 15:10:12 评论

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谢谢分享                                                                                          
2015-6-19 08:44:21 评论

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怎么解压不了
2016-11-26 15:15:01 评论

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感谢楼主
挺好的资料,
谢谢
2017-6-4 16:25:18 评论

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楼主威武!感谢分享!
2017-6-8 23:10:05 评论

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谢谢,楼主
2017-6-23 20:41:42 评论

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很好,收下,谢谢
2017-7-11 08:57:08 评论

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想要,可是积分不够,
2017-8-10 19:58:40 评论

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集成电路封装测试材料设备采购销售信息群:108784692
2017-8-18 16:58:22 评论

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集成电路封装测试材料设备采购销售信息群:108784692
2017-8-18 16:58:35 评论

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好东西哈哈哈,我找了好久了
第二个文件居然拆分成了两个,要下载两次
资料是好,英文太差看不东。
2017-10-22 22:05:22 评论

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正需要,多谢作者!
2018-1-17 14:54:31 评论

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好资料
2018-2-11 13:16:46 评论

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